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光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510036077.9
IPC分类号：G03F7/027;G03F7/004;H01L21/77
申请日期：
2015-01-23
申请人：
三星显示有限公司;株式会社东进世美肯

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法
申请号	CN201510036077.9	申请日期	2015-01-23
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-07-29	公开/公告号	CN104808439A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/027 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/027 具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物（G03F 7/075优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7查看分类表>
申请人	三星显示有限公司;株式会社东进世美肯	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星显示有限公司,株式会社东进世美肯	当前权利人	三星显示有限公司,株式会社东进世美肯
发明人	朴成均;朴廷敏;李政洙;金智贤;田俊;曹基铉;尹赫敏;金珍善;吕泰勋;金柄郁
代理机构	北京德琦知识产权代理有限公司	代理人	暂无

摘要

本发明提供了光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法。光致抗蚀剂组合物包含相对于约100重量份的丙烯酰基共聚物为约0.1重量份至约30重量份的光引发剂、约1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体、约1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体。

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