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薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201180053409.4
IPC分类号：G03F9/00;G03F7/20;H01L21/677;H01L21/68
申请日期：
2011-08-16
申请人：
株式会社V技术

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法
申请号	CN201180053409.4	申请日期	2011-08-16
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2013-08-28	公开/公告号	CN103270454A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F9/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F9/00 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地（G03F 7/22优先；照相蒙片的制备入G03F 1/00；在复制用的照相印片设备中的入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8查看分类表>
申请人	株式会社V技术	申请人地址	日本神奈川县横浜市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社V技术	当前权利人	株式会社V技术
发明人	水村通伸
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	暂无

摘要

在薄膜基材（20）的宽度方向的两侧的薄膜基材送给用区域的至少一个区域形成侧部曝光材料膜，通过定位标记形成部（14），照射曝光光来形成定位标记（2a），使用该定位标记（2a）检测薄膜弯曲行进，调整掩模（12）的位置。由此，将薄膜进行连续曝光时的定位标记的形成很容易，且高精度地修正薄膜的弯曲行进，能够得到能稳定地曝光的薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法。

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