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一种光刻机照明视场光强分布测量控制方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201910148755.9
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2019-02-28
  • 申请人:
    中国科学院光电技术研究所
著录项信息
专利名称一种光刻机照明视场光强分布测量控制方法
申请号CN201910148755.9申请日期2019-02-28
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2019-10-22公开/公告号CN110361939A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人中国科学院光电技术研究所申请人地址
四川省成都市双流350信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院光电技术研究所当前权利人中国科学院光电技术研究所
发明人刘卫静;廖志杰;林妩媚;邢廷文
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种光刻机照明视场光强分布测量控制方法,该方法主要应用于运动台带动点能量传感器对光刻机照明视场内各点的光强进行测量的装置中。测量装置中运动台连续运动,通过光刻机曝光光源输出的激光同步信号控制采集系统采集激光光强,同时记录运动台瞬时位置坐标。该控制算法即解决了传感器阵列不能对大视场光强分布的一次成像问题,又实现了通过点能量传感器对光强分布的快速扫描。

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