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双层层叠物及使用它的构图方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810005175.6
  • IPC分类号:G03F7/023;G03F7/095;G03F7/00
  • 申请日期:
    2002-11-15
  • 申请人:
    捷时雅株式会社
著录项信息
专利名称双层层叠物及使用它的构图方法
申请号CN200810005175.6申请日期2002-11-15
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2008-07-30公开/公告号CN101231465
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/023IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;2;3;;;G;0;3;F;7;/;0;9;5;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人捷时雅株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人捷时雅株式会社当前权利人捷时雅株式会社
发明人太田克;伊藤淳史;望月勇;猪俣克巳;岩永伸一郎
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人项丹
摘要
本发明涉及用于形成图案层的顶离方法,所述层通过沉积和/或溅射形成。本发明提供了双层抗蚀剂以及使用该抗蚀剂的形成图案的方法。这种形成图案的方法容易在基材上形成无毛刺的层。该方法包括下列步骤:顺序施涂辐射敏感的树脂组合物1和2,形成双层层叠物;使所述双层层叠物进行一次曝光和显影,形成具有底切横截面的细的图案;使用抗蚀剂图案作为掩膜,沉积和/或溅射有机或无机薄层;和顶离所述抗蚀剂图案,留下需要形状的薄层的图案。

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