一种表面具有拓扑图案的金刚石薄膜及其制备方法和应用

发明专利有效专利

申请号：
CN202110647068.9
IPC分类号：C23C16/27;C23C16/511;C23C16/02;B23K26/362;A61L27/50;A61L27/30;A61L27/06
申请日期：
2021-06-10
申请人：
南方科技大学

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专利名称	一种表面具有拓扑图案的金刚石薄膜及其制备方法和应用
申请号	CN202110647068.9	申请日期	2021-06-10
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-14	公开/公告号	CN113388822A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/27 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/26 仅沉积碳〔4〕 C23C16/27 仅沉积金刚石〔7〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;2;7;;;C;2;3;C;1;6;/;5;1;1;;;C;2;3;C;1;6;/;0;2;;;B;2;3;K;2;6;/;3;6;2;;;A;6;1;L;2;7;/;5;0;;;A;6;1;L;2;7;/;3;0;;;A;6;1;L;2;7;/;0;6查看分类表>
申请人	南方科技大学	申请人地址	广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	南方科技大学	当前权利人	南方科技大学
发明人	任富增;朱明余;李玉磊;王晓飞;赵予生
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	潘登

摘要

本发明提供一种表面具有拓扑图案的金刚石薄膜及其制备方法和应用，所述制备方法包括如下步骤：(1)在基底上制备拓扑图案，得到具有拓扑图案的基底；所述拓扑图案的制备方法选自光刻结合电感耦合等离子体刻蚀法、湿法刻蚀法或激光直写法中的任意一种；(2)在步骤(1)得到的具有拓扑图案的基底上沉积金刚石薄膜，得到所述表面具有拓扑图案的金刚石薄膜。所述制备方法具有可大面积制备、高精度以及图案可控的优点，由所述制备方法得到的金刚石薄膜可应用于牙科植入材料、骨科植入材料或者生物探针中。

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