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具有改进的耐化学品性的可成像元件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200680045164.X
  • IPC分类号:B41M5/36;B41C1/10;G03F7/039
  • 申请日期:
    2006-11-21
  • 申请人:
    伊斯曼柯达公司
著录项信息
专利名称具有改进的耐化学品性的可成像元件
申请号CN200680045164.X申请日期2006-11-21
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2008-12-10公开/公告号CN101321632
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41M5/36IPC分类号B;4;1;M;5;/;3;6;;;B;4;1;C;1;/;1;0;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9查看分类表>
申请人伊斯曼柯达公司申请人地址
美国纽约州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人伊斯曼柯达公司当前权利人伊斯曼柯达公司
发明人S·萨赖亚;J·帕特尔;T·陶;K·B·雷;F·E·米克尔;J·L·马利根;J·卡拉门;S·A·贝克利;E·克拉克
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人赵苏林;范赤
摘要
本发明涉及单层和多层的可成像元件,其具有基材和至少一层可成像层。这些元件可以用于制备负性或正性工作的成像元件,例如作为石印板。可成像元件还包含辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物,所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基。当此聚合物含有金刚烷基侧基时,这些侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。由于存在独特的耐溶剂聚合物,可成像元件具有改进的耐化学品性和热烘烤性。

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