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基板处理装置和基板处理方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200410004100.8
IPC分类号：H01L21/00;G02F1/136
申请日期：
2004-02-09
申请人：
东京毅力科创株式会社

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置和基板处理方法
申请号	CN200410004100.8	申请日期	2004-02-09
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2004-09-01	公开/公告号	CN1525528
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	西冈慎二;坂井光广;村上卓人;田尻健一
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	胡强;杨松龄

摘要

在本发明中，由于相应于基板的种类进行气缸的切换，所以能够防止在基板的成品区域转印支持销的痕迹。此外，在本发明中，由于以平台为基准驱动支持销升降，所以能够使气缸的驱动量比较少，而且能够极力抑制微粒的产生。

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