基底干燥方法、显影方法、光刻方法和基底干燥系统发明专利
申请号：CN201910722297.5
LOC分类号:G03F7/40
IPC结构图谱：
- B作业；运输
- B0分离；混合
- B08清洁
- B08B一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F）
- B08B1/00利用工具，刷子或类似工具的清洁方法（B08B 3/12，B08B 6/00，B08B 9/00优先）〔2〕
- B08B1/04利用旋转动作的构件（B08B 1/02优先）
