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基底干燥方法、显影方法、光刻方法和基底干燥系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201910722297.5
IPC分类号：G03F7/40;G03F7/30;G03F7/32
申请日期：
2019-08-06
申请人：
三星电子株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基底干燥方法、显影方法、光刻方法和基底干燥系统
申请号	CN201910722297.5	申请日期	2019-08-06
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-05-22	公开/公告号	CN111190331A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/40 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/40 去除影像之后的处理，例如，烘干〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;0;;;G;0;3;F;7;/;3;0;;;G;0;3;F;7;/;3;2查看分类表>
申请人	三星电子株式会社	申请人地址	韩国京畿道水原市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星电子株式会社	当前权利人	三星电子株式会社
发明人	金伶厚;李根泽;赵庸真;高次元;朴晟见;李晓山;车知勋;崔秀瑛
代理机构	北京铭硕知识产权代理有限公司	代理人	陈亚男;尹淑梅

摘要

公开了基底干燥方法、光致抗蚀剂显影方法、光刻方法和基底干燥系统。可提供基底干燥方法，该基底干燥方法包括在基底上提供干燥液体、增大干燥液体的压力以产生超临界流体和去除超临界流体以干燥基底。

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