用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN02240534.8
IPC分类号：--
申请日期：
2002-06-14
申请人：
中国科学院物理研究所

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法律信息

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著录项信息

专利名称	用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置
申请号	CN02240534.8	申请日期	2002-06-14
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国科学院物理研究所	申请人地址	北京市海淀区中关村南三街8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院物理研究所	当前权利人	中国科学院物理研究所
发明人	朱亚彬;周岳亮;王淑芳;许加迪;陈正豪;吕惠宾;杨国桢
代理机构	北京隆天律诚知识产权代理有限公司	代理人	王凤华

摘要

本实用新型涉及用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置。该装置包括：光源；其特征在于：还包括一凹面镜、凸透镜；其中光源放在一凹面镜、凸透镜之间，并处在凹面镜的焦点上；凸透镜的焦点在靶面上；光源和凹面镜放在凸透镜的2倍焦距之外，该聚焦系统安装在真空室外；光束通过真空室的观察窗入射到真空室内的靶面上。真空室内安装有几个靶，就可以安装有几个聚焦系统。光源输出光经过凹面镜和凸透镜组成的聚焦系统，把光束聚焦在靶面上，使得靶表面的温度易于达到靶材的升华点。采用该装置制备的厚膜超导性能优良、质地均匀、致密、适合工业化应用。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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