缺陷检查系统及缺陷检查方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710112250.4
IPC分类号：G06F17/50;H01L21/66
申请日期：
2007-06-25
申请人：
株式会社日立高新技术

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	缺陷检查系统及缺陷检查方法
申请号	CN200710112250.4	申请日期	2007-06-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-12-26	公开/公告号	CN101093520
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06F17/50 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G06 计算；推算；计数 G06F 电数字数据处理（基于特定计算模型的计算机系统入G06N） G06F17/00 特别适用于特定功能的数字计算设备或数据处理设备或数据处理方法〔6〕 G06F17/50 计算机辅助设计（静态存储的测试电路的设计入G11C 29/54）〔6，8〕	IPC分类号	G;0;6;F;1;7;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人	株式会社日立高新技术	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日立高新技术	当前权利人	株式会社日立高新技术
发明人	松冈良一;诸熊秀俊;酢谷拓路
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李香兰

摘要

一种缺陷检查系统，具备：时序解析部(412)，该部根据电路设计数据，抽出信号传输动作的精度要求比其它的部位高的关键路径；关键路径抽出部(413)，该部对电路设计数据和布局设计数据加以对照，抽出包含用时序解析部(412)抽出的关键路径的图形数据；检查处置方案编制部(416)，该部根据包含用关键路径抽出部(413)抽出的关键路径的图形数据的坐标信息，决定检查部位；SEM式缺陷评价装置，该装置按照该检查处置方案编制部(416)编制的检查处置方案，取得晶片上的检查部位的图象。提供能够抽出伴随着电路动作上要求的加工精度的高低而发生的缺陷的缺陷检查系统及缺陷检查方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
1	CN1673991A	2005-09-28	2004-03-24	一种缺陷控制方法无效专利	力晶半导体股份有限公司
2	CN1673992A	2005-09-28	2004-03-24	一种缺陷数据库建立方法无效专利	力晶半导体股份有限公司

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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