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一种缺陷控制方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410031726.8
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2004-03-24
  • 申请人:
    力晶半导体股份有限公司
著录项信息
专利名称一种缺陷控制方法
申请号CN200410031726.8申请日期2004-03-24
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2005-09-28公开/公告号CN1673991
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人力晶半导体股份有限公司申请人地址
台湾省新竹市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人力晶半导体股份有限公司当前权利人力晶半导体股份有限公司
发明人林龙辉
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人王志森;黄小临
摘要
一种一半导体制造过程中利用每日例行检查来进行缺陷控制的方法,首先提供一已图案化的晶片,该晶片表面包含有多个第一缺陷,接着对该晶片进行一半导体制造过程,该半导体制造过程于该晶片上形成多个第二缺陷,再对该晶片进行一缺陷检测,以检测出该晶片上的多个第一缺陷与该多个第二缺陷,最后将所检测到的这些缺陷依据一预设的数据库进行缺陷分类,以将该多个第一缺陷与该多个第二缺陷分开,并依据该数据库将该多个第二缺陷分类为多个缺陷类型。

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