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一种优化边缘灵敏度的EIT传感器设计方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110660240.4
  • IPC分类号:A61B5/0536
  • 申请日期:
    2021-06-15
  • 申请人:
    中国人民解放军空军军医大学
著录项信息
专利名称一种优化边缘灵敏度的EIT传感器设计方法
申请号CN202110660240.4申请日期2021-06-15
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-09-21公开/公告号CN113413149A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号A61B5/0536IPC分类号A;6;1;B;5;/;0;5;3;6查看分类表>
申请人中国人民解放军空军军医大学申请人地址
陕西省西安市长乐西路169号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国人民解放军空军军医大学当前权利人中国人民解放军空军军医大学
发明人施艳艳;田志威;付峰;杨滨;周怡敏;刘学超;李磊
代理机构新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)代理人路宽
摘要
本发明公开了一种优化边缘灵敏度的EIT传感器设计方法,首先将n个电极放置在距患者双眉往上3cm的水平面上,并在前额中心与后枕中心各自放置一个电极作为固定电极,将其余电极以间隔弧长放置;将此均匀电极排布作为初始电极位置对患者进行初始成像,根据成像所显示的病变所处区域的不同对电极位置进行优化,将全部电极分为两组,分别进行移动,记录并保存RS、BR值;根据RS与BR值固定靠近病变位置的电极组到最优位置,在删除一定的数据后再根据RS与BR值固定另一远离病变位置的电极组到最优位置。本发明有效提升了边缘位置成像的质量,通过改变电极使更多的电流流经目标区域,从而提升灵敏度,使成像BR值更小,伪影更少。

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