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一种半导体刻蚀设备中零件的表面处理方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610169564.3
IPC分类号：--
申请日期：
2006-12-22
申请人：
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种半导体刻蚀设备中零件的表面处理方法
申请号	CN200610169564.3	申请日期	2006-12-22
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-06-25	公开/公告号	CN101207002
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司	当前权利人	北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
发明人	朱哲渊
代理机构	北京凯特来知识产权代理有限公司	代理人	郑立明

摘要

本发明所述的半导体刻蚀设备中零件的表面处理方法，其核心是在铝基材料零件进行阳极氧化的基础上，再在铝阳极氧化层上喷涂一定厚度的AlF3层，可较大程度减少高腐蚀、高活性等离子体对铝部件的腐蚀及其表面产生的副产物对刻蚀工艺的影响，延长了铝部件的使用寿命。

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