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表面发射型半导体激光器及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN03153544.5
  • IPC分类号:H01S5/18;H01S5/183
  • 申请日期:
    2003-08-15
  • 申请人:
    富士施乐株式会社
著录项信息
专利名称表面发射型半导体激光器及其制造方法
申请号CN03153544.5申请日期2003-08-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2004-06-30公开/公告号CN1508915
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01S5/18IPC分类号H;0;1;S;5;/;1;8;;;H;0;1;S;5;/;1;8;3查看分类表>
申请人富士施乐株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人富士施乐株式会社当前权利人富士施乐株式会社
发明人山本将央;樱井淳
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人李辉
摘要
提供一种表面发射型半导体激光器及其制造方法,该表面发射型半导体激光器包括衬底、形成在衬底上并包括第一导电类型半导体层的第一反射镜、包括第二导电类型半导体层的第二反射镜、设置在第一反射镜和第二反射镜之间的有源区、设置在第一和第二反射镜之间并包括选择氧化区的电流限制层和无机绝缘膜。台面结构至少包括第二反射镜和电流限制层。无机绝缘膜至少覆盖台面结构的侧表面并具有等于或小于1.5×109达因/cm2的内应力。

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