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高噪声环境下的自动对焦方法及其数字取像装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910001569.9
  • IPC分类号:H04N5/232;H04N101/00
  • 申请日期:
    2009-01-12
  • 申请人:
    华晶科技股份有限公司
著录项信息
专利名称高噪声环境下的自动对焦方法及其数字取像装置
申请号CN200910001569.9申请日期2009-01-12
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-07-14公开/公告号CN101778213A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H04N5/232IPC分类号H;0;4;N;5;/;2;3;2;;;H;0;4;N;1;0;1;/;0;0查看分类表>
申请人华晶科技股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华晶科技股份有限公司当前权利人华晶科技股份有限公司
发明人廖明俊;彭诗渊
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人梁挥;祁建国
摘要
本发明公开了一种在高噪声环境下的自动对焦方法及其数字取像装置,用于决定数字取像装置对被摄物的物距。其中包括有:分别在最远物距时以第一曝光条件与第二曝光条件取得两张数字影像;在最近物距时以第一曝光条件与第二曝光条件取得两张数字影像;以第一曝光条件在最远物距与最近物距之外的多个不同物距撷取数字影像;选取至少两张相邻物距的影像经由影像叠加单元产生合成影像;计算合成影像的物距;计算第二最远物距影像、第二最近物距影像与合成影像对焦框内的高频信号;从上述的影像中决定其高频信号最大值所相应的物距,并将自动对焦镜头移动至该物距,完成对焦动作。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供