蒸镀装置及其控制方法、使用了蒸镀装置的蒸镀方法、以及器件的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201580013126.5
IPC分类号：C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
申请日期：
2015-02-23
申请人：
株式会社日本有机雷特显示器

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专利名称	蒸镀装置及其控制方法、使用了蒸镀装置的蒸镀方法、以及器件的制造方法
申请号	CN201580013126.5	申请日期	2015-02-23
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-11-09	公开/公告号	CN106103790A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;H;0;5;B;3;3;/;1;0查看分类表>
申请人	株式会社日本有机雷特显示器	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日本有机雷特显示器	当前权利人	株式会社日本有机雷特显示器
发明人	泷口明
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	张谟煜;段承恩

摘要

一种共蒸镀不同的蒸镀材料的蒸镀装置，包括腔室，蒸镀对象物设于腔室内；向蒸镀对象物吐出第1蒸镀材料的蒸气的第1蒸镀源；向蒸镀对象物吐出第2蒸镀材料的蒸气的第2蒸镀源；对第1蒸镀材料进行加热的第1加热部；对第2蒸镀材料进行加热的第2加热部；和控制第1加热部及第2加热部的加热控制部；加热控制部构成为能够将第1及第2加热部控制成第2蒸镀材料的升温比第1蒸镀材料的升温滞后预定时间而开始。

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