用于制造磁记录头中窄线结构的方法和系统

发明专利无效专利

申请号：
CN201210167148.5
IPC分类号：G11B5/127;H01L43/12
申请日期：
2012-05-25
申请人：
西部数据（弗里蒙特）公司

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著录项信息

专利名称	用于制造磁记录头中窄线结构的方法和系统
申请号	CN201210167148.5	申请日期	2012-05-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2012-11-28	公开/公告号	CN102800326A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G11B5/127 ? IPC结构图谱： G 物理 G9 G部其他 G11 信息存储 G11B 基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储（以不需要通过换能器重现记录值的方式记录测量值的入G01D 9/00；利用有机械标记的带子，例如，穿孔纸带或利用单元记录卡，如穿孔卡片或具有磁性标记的卡片的记录或重现设备入G06K；将数据从记录载体的一种类型转移到另一种类型上的入G06K 1/18；将重放装置的输出耦合到无线电接收机上去的电路入H04B 1/20；唱机拾音器之类的声音机电传感器或为此所用的电路入H04R） G11B5/00 借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体（G11B 11/00优先）〔4〕 G11B5/127 磁头的结构或制造，例如电感应的〔4〕	IPC分类号	G;1;1;B;5;/;1;2;7;;;H;0;1;L;4;3;/;1;2查看分类表>
申请人	西部数据（弗里蒙特）公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西部数据（弗里蒙特）公司	当前权利人	西部数据（弗里蒙特）公司
发明人	W·高
代理机构	北京纪凯知识产权代理有限公司	代理人	赵蓉民

摘要

本发明描述了一种用于制造在磁记录头中结构的方法。在用于结构的层上提供第一和第二硬掩膜层。在第二硬掩膜层上提供底层抗反射涂（BARC）层和具有图案的光致抗蚀剂掩膜。该图案包括与结构相对应的线路。利用蚀刻化学以单一蚀刻将该图案转移到底层抗反射涂层（BARC）和第二硬掩膜层。利用和第一蚀刻化学大致相同的蚀刻化学修剪至少第二硬掩膜层。形成包括与线路相对应的硬掩膜线路以及宽度少于三十纳米的掩膜。第二硬掩膜的图案转移到第一硬掩膜层。第一硬掩膜层的图案转移到使得结构具有大致宽度的层。

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