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用于实施晶圆薄化工艺的表面改性

发明专利有效专利

申请号：
CN201010500673.5
IPC分类号：H01L21/768
申请日期：
2010-09-29
申请人：
台湾积体电路制造股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于实施晶圆薄化工艺的表面改性
申请号	CN201010500673.5	申请日期	2010-09-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-04-27	公开/公告号	CN102034742A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/768 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/70 由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K 3/00，H05K 13/00）〔2〕 H01L21/71 限定在组H01L 21/70中的器件的特殊部件的制造（H01L 21/28，H01L 21/44，H01L 21/48优先）〔6〕 H01L21/768 利用互连在器件中的分离元件间传输电流〔6〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人	台湾积体电路制造股份有限公司	申请人地址	中国台湾新竹变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	台湾积体电路制造股份有限公司	当前权利人	台湾积体电路制造股份有限公司
发明人	邱文智;眭晓林;吴文进;洪瑞斌
代理机构	北京德恒律师事务所	代理人	陆鑫;熊须远

摘要

本发明提供具有延伸了一部分基板的通孔，与通孔电连接的互连结构，和形成在互连结构上的聚酰亚胺层的晶圆。聚酰亚胺层的表面改性是通过涂层，等离子体处理，化学处理，或沉积法在聚酰亚胺层上形成薄介电层而完成的。将薄介电层牢固地粘结在聚酰亚胺层上，其可减小晶圆表面和在随后载体粘结工艺中形成的粘结层之间的粘结力。本发明还提供了一种用于实施晶圆薄化工艺的表面改性。

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