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一种双极型晶体管电流放大系数测量方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010164895.4
  • IPC分类号:G01R31/26;G01R1/067
  • 申请日期:
    2010-04-29
  • 申请人:
    上海宏力半导体制造有限公司
著录项信息
专利名称一种双极型晶体管电流放大系数测量方法
申请号CN201010164895.4申请日期2010-04-29
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2010-09-08公开/公告号CN101825681A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R31/26IPC分类号G;0;1;R;3;1;/;2;6;;;G;0;1;R;1;/;0;6;7查看分类表>
申请人上海宏力半导体制造有限公司申请人地址
上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人韦敏侠
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人郑玮
摘要
本发明提供一种双极型晶体管电流放大系数测量方法,在探针卡上的探针中选取用于测试的测试探针;将所述测试探针与测试机连接,通过导线将所述探针卡上每个相同测试探针所对应的探针连接点和测试机连接点连接,所述导线直线连接所述探针连接点和所述测试机连接点,无交错缠绕;将所述测试探针接触所述双极型晶体管的发射极和集电极;通过所述测试机和探针卡向所述双极型晶体管的发射极E和集电极C施加电压,所述测试机实时测得在施加于发射极E的各个电压值下的发射极电流IE、集电极电流IC和基极电流IB,通过得到的集电极电流IC和基极电流IB得到电流放大系数β。本发明方法可准确测量到电流放大系数较大的双极型晶体管的电流放大系数值。

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