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包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆

发明专利无效专利

申请号：
CN02816212.9
IPC分类号：C09K3/14
申请日期：
2002-08-20
申请人：
三星康宁株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆
申请号	CN02816212.9	申请日期	2002-08-20
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-11-03	公开/公告号	CN1543492
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K3/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K3/00 不包含在其他类目中的材料〔2〕 C09K3/14 防滑材料；研磨材料（含高分子物质的磨料或摩擦体或者成型磨料的制造入C08J 5/14）〔4〕	IPC分类号	C;0;9;K;3;/;1;4查看分类表>
申请人	三星康宁株式会社	申请人地址	韩国庆尚北道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三星康宁精密素材株式会社	当前权利人	三星康宁精密素材株式会社
发明人	李鳞渊;金尚太;赵允珠;朴商圭;金炅俊
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	过晓东

摘要

一种用于CMP的抛光淤浆组合物，包括0.5-5重量%的分散在水介质中的二氧化硅涂覆铈土粉末，其可有利地用于平整各种半导体和场致发光器件的薄膜层。

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