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制备偏光板的方法及偏光板

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201580000754.X
  • IPC分类号:G02B5/30;C08J5/18;B32B27/30;B29D7/01;B29L7/00;B29L11/00;G02F1/1335
  • 申请日期:
    2015-06-24
  • 申请人:
    LG化学株式会社
著录项信息
专利名称制备偏光板的方法及偏光板
申请号CN201580000754.X申请日期2015-06-24
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2016-04-06公开/公告号CN105474055A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/30IPC分类号G;0;2;B;5;/;3;0;;;C;0;8;J;5;/;1;8;;;B;3;2;B;2;7;/;3;0;;;B;2;9;D;7;/;0;1;;;B;2;9;L;7;/;0;0;;;B;2;9;L;1;1;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5查看分类表>
申请人LG化学株式会社申请人地址
韩国首尔 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人LG化学株式会社当前权利人LG化学株式会社
发明人李炳鲜;南星铉;罗钧日
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人顾晋伟
摘要
本发明涉及一种偏光板和制备该偏光板的方法,更具体地,涉及一种局部具有去偏光区域的偏光板的制备方法,所述方法包括以下步骤:提供用碘和/或二向色染料染色的基于聚乙烯醇的偏光片;在所述偏光片的一个表面上配备保护膜和离型膜;以及使脱色溶液局部接触所述偏光片的另一表面,从而形成一个或多个去偏光区域,其中,所述离型膜配备在所述保护膜的与面向所述偏光片的表面相反的表面上,所述去偏光区域在400nm至800nm的波长带处具有80%以上的单体透射率和10%以下的偏光度,且所述去偏光区域的最大凹陷深度为10μm以下。

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