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栅氧化层工艺中的厚度补偿方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110466998.4
  • IPC分类号:H01L21/66;H01L21/28
  • 申请日期:
    2021-04-28
  • 申请人:
    上海华虹宏力半导体制造有限公司
著录项信息
专利名称栅氧化层工艺中的厚度补偿方法
申请号CN202110466998.4申请日期2021-04-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-06公开/公告号CN113223979A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/66IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;6;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8查看分类表>
申请人上海华虹宏力半导体制造有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人刘俊;李灵均
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司代理人焦健
摘要
本发明公开了一种栅氧化层工艺中的厚度补偿方法,根据每lot批次晶圆上栅氧化层生长前已具有的氧化层厚度与最终形成的掺杂栅氧化层电学厚度的相关性,按比例进行栅氧化层厚度的自动补偿。补偿系数是根据每lot批次栅氧化层生长前已具有的氧化层厚度与最终形成的掺杂栅氧化层电学厚度的相关性按比例获得栅氧化层生长厚度补偿系数K值,进行栅氧化层厚度的自动补偿。通过对栅氧化层生产过程中,在晶圆上本身已经具有不同厚度氧化层的基础上,根据现有的不同厚度的氧化层进行栅氧化层生长厚度自动补偿,使得同一lot批次的晶圆的栅氧化层一致性更高,提高器件的工艺窗口。

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