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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

半导体器件

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN200620121220.0
  • IPC分类号:H01L27/00;H01L23/34
  • 申请日期:
    2005-03-11
  • 申请人:
    雅马哈株式会社
著录项信息
专利名称半导体器件
申请号CN200620121220.0申请日期2005-03-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/00IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;3;/;3;4查看分类表>
申请人雅马哈株式会社申请人地址
日本静冈县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人雅马哈株式会社当前权利人雅马哈株式会社
发明人野本健太郎;井川郁哉;齐藤博;佐藤隆志;大桥敏雄;大仓喜洋
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波;侯宇
摘要
提供了一种半导体器件,其包括具有用于制造电子电路的第一表面的半导体基底;由绝缘树脂构成的树脂包围层,其形成在半导体基底的第一表面上;与电子电路相连并在树脂包围层上部分露出的多个外部端子;在树脂包围层上形成的多个通道或空洞;以及在与半导体基底的第一表面相对的第二表面上形成的多个通道或空洞。所述通道沿预定方向延伸,或者将其形成为彼此成直角地相交。由于形成通道或空洞,所以可以提高半导体器件表面的总面积,由此提高半导体器件的散热性能。另外,可以避免半导体器件的弯曲。

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