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多晶MgO烧结体及其制造方法以及溅射用MgO靶材

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200980103400.2
  • IPC分类号:C04B35/053;C23C14/34
  • 申请日期:
    2009-01-27
  • 申请人:
    日本钨合金株式会社;宇部材料工业株式会社
著录项信息
专利名称多晶MgO烧结体及其制造方法以及溅射用MgO靶材
申请号CN200980103400.2申请日期2009-01-27
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2010-12-22公开/公告号CN101925555A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/053IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;0;5;3;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人日本钨合金株式会社;宇部材料工业株式会社申请人地址
日本福冈县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日本钨合金株式会社,宇部材料工业株式会社当前权利人日本钨合金株式会社,宇部材料工业株式会社
发明人永野光芳;高巢正信;在田洋;佐野聪
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人李帆
摘要
本发明提供MgO烧结体及其制造方法,所述MgO烧结体的烧结密度接近理论密度,机械性质及热传导率优良,能够减少由气体产生造成的气氛的污染。多晶MgO烧结体具有在施加有单向压力的面上使多个(111)面取向的独特的晶体各向异性。所述多晶MgO烧结体经由单向加压烧结粒径为1μm以下的MgO原料粉末的工序和其后在存在0.05体积%以上氧的气氛中,以1273K以上的温度热处理1分钟以上的工序而得到。

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