加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

电容器及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610109925.5
  • IPC分类号:H01L23/32;H01L23/488;H01L21/00
  • 申请日期:
    2006-08-24
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社;奥克泰克有限公司;揖斐电株式会社
著录项信息
专利名称电容器及其制造方法
申请号CN200610109925.5申请日期2006-08-24
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2007-05-09公开/公告号CN1959964
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/32IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;3;2;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;8;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社;奥克泰克有限公司;揖斐电株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社,奥克泰克有限公司,揖斐电株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社,奥克泰克有限公司,揖斐电株式会社
发明人山西良树;原田宗生;北野高弘;川口达三;广田良浩;山田欣司;篠田智隆;奥村胜弥;河野秀一
代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司代理人王怡
摘要
本发明提供一种高质量的电容器及其制造方法。电容器(10)包括:形成在氧化膜(12)上的下部电极(13a);形成在下部电极(13a)上的电介质层(14);间隔电介质层(14)而与下部电极(13a)相对形成的上部电极(15a);以及覆盖上部电极(15a)并覆盖上部电极(15a)的开口部(62v)和电介质层(14)的开口部(61v)的上部电极(15b)。通过在电介质层(14)上形成上部电极(15a),可将该上部电极作为掩模来对电介质层(14)进行图案化,从而抑制杂质向电介质层(14)内扩散,另外,可以通过上部电极(15b)来防止电介质层(14)暴露在蚀刻液、显影液等中的情况,从而能够提供具有高质量的电介质层(14)的电容器(10)。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供