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抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510113455.5
  • IPC分类号:C09K3/14;H01L21/304
  • 申请日期:
    2005-10-14
  • 申请人:
    福吉米株式会社
著录项信息
专利名称抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
申请号CN200510113455.5申请日期2005-10-14
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-04-19公开/公告号CN1760307
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09K3/14IPC分类号C;0;9;K;3;/;1;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;4查看分类表>
申请人福吉米株式会社申请人地址
日本国爱知县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人福吉米株式会社当前权利人福吉米株式会社
发明人高见信一郎
代理机构上海市华诚律师事务所代理人徐申民;董红曼
摘要
一种抛光组合物,其包含:研磨剂如胶态二氧化硅、选自咪唑和咪唑衍生物中的至少一种化合物、以及水。该抛光组合物优选进一步包含碱性化合物、水溶性聚合物、或螯合剂。该抛光组合物适用于抛光如半导体基板等物体的边缘。

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