测量装置及其测量方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201911380304.4
IPC分类号：G01M11/02
申请日期：
2019-12-27
申请人：
上海微电子装备（集团）股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	测量装置及其测量方法
申请号	CN201911380304.4	申请日期	2019-12-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-29	公开/公告号	CN113049224A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01M11/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01M 机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试 G01M11/00 光学设备的测试；其他类目未包括的用光学方法测试结构部件 G01M11/02 光学性质的测试	IPC分类号	G;0;1;M;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	马明英
代理机构	上海思捷知识产权代理有限公司	代理人	王宏婧

摘要

在本发明提供了一种测量装置及其测量方法，用于测量投影物镜，通过光束入射到调整部件上经调整后入射到物面标记承载部件以形成第一衍射光；所述调整部件能够调整所述光束的角度和所述光束的分布，能够使所述光束准确的入射到所述物面标记承载部件，以及能够使得所述光束汇聚。所述第一衍射光通过所述投影物镜入射到像面标记承载部件上形成第二衍射光进而被探测器接收，所述探测器用于探测所述第二衍射光的光强以得到所述投影物镜的波像差和数值孔径。由此，能够提高所述投影物镜的测量精度，从而得到较准确的波像差以及数值孔径。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供