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阵列基板及其制备方法、显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410129048.2
  • IPC分类号:H01L21/77;H01L27/12
  • 申请日期:
    2014-04-01
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板及其制备方法、显示装置
申请号CN201410129048.2申请日期2014-04-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-07-16公开/公告号CN103928401A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/77IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
发明人郭建
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司代理人李迪
摘要
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置,所述阵列基板的制备方法包括以下步骤:S1.在衬底基板上形成包括栅极、栅极绝缘层、有源层和源漏电极的图案;S2.在完成步骤S1的衬底基板上形成透明导电层,通过一次构图工艺同时形成包括像素电极和数据线的图案。本发明提供的阵列基板通过一次构图工艺同时形成像素电极和数据线,减少的制造工艺步骤,节省了生产成本,提高了生产效率;进一步,使用石墨烯或纳米银线材料制作透明导电层并形成像素电极和数据线,使像素电极和数据线均具有较低电阻值和较高的光透过率的性能,从而提升了阵列基板的性能。

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