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激光定位钻孔深度可控的垂直向上式定位钻孔装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201120532763.2
  • IPC分类号:B23D45/14;B23D47/00
  • 申请日期:
    2011-12-19
  • 申请人:
    中国一冶集团有限公司
著录项信息
专利名称激光定位钻孔深度可控的垂直向上式定位钻孔装置
申请号CN201120532763.2申请日期2011-12-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23D45/14IPC分类号B;2;3;D;4;5;/;1;4;;;B;2;3;D;4;7;/;0;0查看分类表>
申请人中国一冶集团有限公司申请人地址
湖北省武汉市青山区工业大道3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国一冶集团有限公司当前权利人中国一冶集团有限公司
发明人郑运洪;李和平;李德家
代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司代理人唐万荣
摘要
本实用新型提供一种能够实现在垂直向上钻孔时人在地面操作,无需高空作业,且准确定位,保证钻孔的垂直度的激光定位钻孔深度可控的垂直向上式定位钻孔装置。它包括支撑架,支撑架中间固定有加长杆,加长杆上端连接电钻固定装置,中间标有刻度,尾部设置成扁圆形,所述的支撑架中央沿铅垂方向分别同轴设置有第一定向套筒和第二定向套筒,加长杆下端穿过两个套筒,所述的支撑架上还设有一个推动加长杆上移的杠杆操纵机构。此装置无需高空作业,提高钻孔作业的安全性;可收缩的支撑架设计,方便装置的搬运;可对钻孔精确定位,保证钻孔的垂直度,确保钻孔质量,并可方便地控制钻孔深度。

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