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一种晶面耦合氧化亚铜、其制备方法及应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110534806.9
  • IPC分类号:C01G3/02;C25B3/26;C25B11/077;C25B9/19
  • 申请日期:
    2021-05-17
  • 申请人:
    中国科学技术大学
著录项信息
专利名称一种晶面耦合氧化亚铜、其制备方法及应用
申请号CN202110534806.9申请日期2021-05-17
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-06公开/公告号CN113072092A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01G3/02IPC分类号C;0;1;G;3;/;0;2;;;C;2;5;B;3;/;2;6;;;C;2;5;B;1;1;/;0;7;7;;;C;2;5;B;9;/;1;9查看分类表>
申请人中国科学技术大学申请人地址
安徽省合肥市包河区金寨路96号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学技术大学当前权利人中国科学技术大学
发明人高敏锐;吴志征;高飞跃
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人张柳
摘要
本发明涉及电催化二氧化碳还原技术领域,尤其涉及一种晶面耦合氧化亚铜、其制备方法及应用;所述晶面耦合氧化亚铜的制备方法包括以下步骤A)将铜盐、聚乙烯吡咯烷酮与水混合,加热至50~60℃,得到混合溶液;所述铜盐和聚乙烯吡咯烷酮的用量比为1mmol:0.56~2.78g;B)在搅拌的所述混合溶液中,先逐滴加入氢氧化钠溶液进行反应,再逐滴加入抗坏血酸溶液进行反应,得到晶面耦合的氧化亚铜。本发明使用更少的反应原料,实现了对氧化亚铜形貌的调节,且得到的氧化亚铜晶面之间的比例可以调节,尺寸更加均匀,具有极好的二氧化碳电催化性能,具有较高的多碳产物法拉第效率与电流密度。

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