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一种钽酸锂晶片黑化装置及其使用方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911180646.1
  • IPC分类号:C30B33/00;C30B33/02;C30B29/30
  • 申请日期:
    2019-11-27
  • 申请人:
    成都泰美克晶体技术有限公司
著录项信息
专利名称一种钽酸锂晶片黑化装置及其使用方法
申请号CN201911180646.1申请日期2019-11-27
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-02-07公开/公告号CN110760934A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B33/00IPC分类号C;3;0;B;3;3;/;0;0;;;C;3;0;B;3;3;/;0;2;;;C;3;0;B;2;9;/;3;0查看分类表>
申请人成都泰美克晶体技术有限公司申请人地址
四川省成都市高新区西部园区天映路103号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人成都泰美克晶体技术有限公司当前权利人成都泰美克晶体技术有限公司
发明人李辉;叶竹之;雷晗
代理机构成都弘毅天承知识产权代理有限公司代理人许志辉
摘要
本发明公开了一种钽酸锂晶片黑化装置及其使用方法。包括盛装管,以及放置在盛装管内部的晶片放置装置,所述晶片放置装置包括底板、盖板以及设置在两者之间的多个治具,所述晶片放置装置通过底板水平放置在盛装管内部,所述治具为环状结构并且在其环状结构的两个端面均开设有通槽,多个治具重叠水平放置在底板上,且相邻治具间的通槽交错排列,所述盖板靠近治具的一侧还设置有重块,所述重块与治具内环匹配能够嵌入治具内环。本发明提高了钽酸锂晶片黑化均匀性。

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