晶圆清洗状态的监测系统及监测方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201910990400.4
IPC分类号：H01L21/67;H01L21/02
申请日期：
2019-10-17
申请人：
夏泰鑫半导体（青岛）有限公司

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著录项信息

专利名称	晶圆清洗状态的监测系统及监测方法
申请号	CN201910990400.4	申请日期	2019-10-17
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-04-20	公开/公告号	CN112687574A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2查看分类表>
申请人	夏泰鑫半导体（青岛）有限公司	申请人地址	山东省青岛市黄岛区太白山路172号青岛中德生态园双创中心219室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	夏泰鑫半导体（青岛）有限公司	当前权利人	夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
发明人	刘锺埈
代理机构	深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司	代理人	彭辉剑;龚慧惠

摘要

本发明公开了一种晶圆清洗状态的监测系统及监测方法，其中，晶圆清洗状态的监测系统包括容器、三通药液阀及第一传感器器，所述容器包括第一入口及第二入口，所述第一入口用于将去离子水输送至所述容器内，所述第二入口用于将清洗液输送至所述容器内，从而使所述去离子水与所述清洗液混合形成混合液；所述三通药液阀中的一接口与所述第一入口连通，用于将所述清洗液引入至所述容器内；所述第一传感器设置于所述容器内，用于获取所述容器内的所述混合液的参数值，进而判断所述晶圆的清洗状态是否正常。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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