光学补偿膜、掩膜版以及曝光机

发明专利有效专利

申请号：
CN201711435037.7
IPC分类号：G03F1/38;G03F7/20
申请日期：
2017-12-26
申请人：
武汉华星光电技术有限公司

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著录项信息

专利名称	光学补偿膜、掩膜版以及曝光机
申请号	CN201711435037.7	申请日期	2017-12-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-06-15	公开/公告号	CN108169997A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/38 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/38 具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;8;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	武汉华星光电技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电技术有限公司
发明人	熊兴
代理机构	深圳翼盛智成知识产权事务所（普通合伙）	代理人	暂无

摘要

本发明提供一种光学补偿膜、掩膜版以及曝光机。光学补偿膜应用于曝光机，曝光机包括多个棱镜，相邻两个棱镜部分重叠设置，形成重叠部分和非重叠部分，光学补偿膜包括第一区域光学补偿膜和第二区域光学补偿膜；第一区域光学补偿膜与重叠部分棱镜相对设置，第一区域光学补偿膜用于将光透射到重叠部分棱镜；第二区域光学补偿膜与非重叠部分棱镜相对设置，第二区域光学补偿膜用于将光透射到非重叠部分棱镜，其中第一区域光学补偿膜的光透过率大于第二区域光学补偿膜的光透过率。该方案通过使第一区域光学补偿膜的光透过率大于第二区域光学补偿膜光透过率，使通过棱镜不同部分的光强度相同，保证曝光膜层的均一性，从而提高了显示面板的显示性能。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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