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单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010290299.4
  • IPC分类号:C03C15/00
  • 申请日期:
    2020-04-14
  • 申请人:
    拓米(成都)应用技术研究院有限公司
著录项信息
专利名称单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃
申请号CN202010290299.4申请日期2020-04-14
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2020-07-28公开/公告号CN111453997A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C03C15/00IPC分类号C;0;3;C;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人拓米(成都)应用技术研究院有限公司申请人地址
四川省成都市新都区石板滩街道跃飞路528号4号楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人成都拓米双都光电有限公司当前权利人成都拓米双都光电有限公司
发明人朴钟先
代理机构成都九鼎天元知识产权代理有限公司代理人杜康黎
摘要
本发明提供一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法,属于玻璃蚀刻技术领域。包括:1)在玻璃基板的一面,形成可实现玻璃图案的耐酸性保护层,并在耐酸性保护层上粘贴耐酸性薄膜Ⅰ,单面蚀刻,使玻璃基板减薄;2)将耐酸性薄膜Ⅰ从玻璃基板上剥离,并在另一面粘贴补偿性厚度的耐酸性薄膜Ⅱ;3)将玻璃基板进行单面蚀刻,只保留已形成图案的部分;4)将耐酸性保护层和耐酸性薄膜Ⅱ从玻璃基板上剥离,即可得到超薄玻璃。本发明可以降低光刻胶的成本;通过蚀刻液对玻璃基板进行减薄,并蚀刻成截面,实现对图案的形状进行高精度切割,无需修复加工;粘贴补偿性酸性薄膜Ⅱ,可以克服蚀刻后玻璃厚度过薄,难以固定的问题,提高超薄玻璃的可移动性。

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