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一种雾化型覆膜反应装置

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201620620410.0
  • IPC分类号:H05K3/28
  • 申请日期:
    2016-06-22
  • 申请人:
    深圳市百诣良科技发展有限公司
著录项信息
专利名称一种雾化型覆膜反应装置
申请号CN201620620410.0申请日期2016-06-22
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05K3/28IPC分类号H;0;5;K;3;/;2;8查看分类表>
申请人深圳市百诣良科技发展有限公司申请人地址
广东省深圳市南山区创业路怡海广场东座2003 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市百诣良科技发展有限公司当前权利人深圳市百诣良科技发展有限公司
发明人李学义;巍代圣
代理机构深圳市精英专利事务所代理人任哲夫
摘要
本实用新型公开了一种雾化型覆膜反应装置,其包括顺次连接的药水储存缸、雾化装置和高压反应装置,还包括气体排放管道,所述气体排放管道一端连接于所述高压反应装置,另一端连接于所述药水储存缸。药水首先由药水储存缸进入雾化装置,经雾化后进入高压反应装置,雾化后的药水在高压反应装置中与铜面充分反应,形成有效结合的覆膜。不采用浸泡式处理方式,且药水经过雾化后,有效提高了其利用率,降低了药水的使用成本,并且药水经过雾化处理可以达到分子级别,与铜面的反应更加有效彻底,可以形成更可靠的有机保护膜,解决了覆膜不良、膜体易脱离的问题。

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