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具有穿透纳米孔的三氧化二铝陶瓷箔材料的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510032663.2
  • IPC分类号:C04B35/10;C04B35/64;C04B38/00
  • 申请日期:
    2005-01-04
  • 申请人:
    华南理工大学
著录项信息
专利名称具有穿透纳米孔的三氧化二铝陶瓷箔材料的制备方法
申请号CN200510032663.2申请日期2005-01-04
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-08-17公开/公告号CN1654419
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/10IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;1;0;;;C;0;4;B;3;5;/;6;4;;;C;0;4;B;3;8;/;0;0查看分类表>
申请人华南理工大学申请人地址
广东省广州市天河区五山路381号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华南理工大学当前权利人华南理工大学
发明人周照耀;夏伟;邵明;王郡文
代理机构广州市华学知识产权代理有限公司代理人盛佩珍
摘要
本发明提供一种具有穿透纳米孔的三氧化二铝陶瓷箔材料的制备方法,包括首先将铝箔贴合在一种导电材料的表面,使材料的表面相接触,维持材料之间导电;再将贴合有铝箔的导电材料作为阳极置于电化学阳极氧化溶液中使铝箔进行氧化反应,从而将铝箔转变成三氧化二铝,并在厚度方向形成穿透的微孔,将三氧化二铝陶瓷箔从导电材料表面上分离之后,则获得具有均匀穿透微孔的单纯的三氧化二铝陶瓷箔材料。本三氧化二铝陶瓷箔材料可以直接应用于气体和液体的精细过滤。本发明可以有效、快速、方便、完整地制得独立存在纳米级孔径的三氧化二铝陶瓷箔材料,工艺简单,操作方便,经济成本低,生产效率高,适合于工业上批量生产应用,市场前景非常广阔。

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