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利用飞秒激光增强化学刻蚀制备大规模微透镜阵列的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210207759.8
  • IPC分类号:B23K26/00;G02B3/00
  • 申请日期:
    2012-06-21
  • 申请人:
    西安交通大学
著录项信息
专利名称利用飞秒激光增强化学刻蚀制备大规模微透镜阵列的方法
申请号CN201210207759.8申请日期2012-06-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-11-21公开/公告号CN102785025A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23K26/00IPC分类号B;2;3;K;2;6;/;0;0;;;G;0;2;B;3;/;0;0查看分类表>
申请人西安交通大学申请人地址
陕西省西安市咸宁路28号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安交通大学当前权利人西安交通大学
发明人陈烽;杨青;胡洋;王先华;瞿谱波;刘贺炜;司金海;侯洵
代理机构西安智大知识产权代理事务所代理人弋才富
摘要
利用飞秒激光增强化学刻蚀制备大规模微透镜阵列的方法,选取作为飞秒激光作用靶材的硬质材料,根据所需要加工的微透镜阵列形状,控制精密加工平台移动靶材的速率,飞秒激光在靶材表面作用100至1000个脉冲数,脉冲频率为1KHz,由于飞秒激光特殊的加工特性,在靶材上以飞秒激光作用焦点为中心产生一个光破坏区;利用体积浓度为1%至10%的氢氟酸溶液对飞秒激光加工后的靶材进行化学腐蚀,并且用超声波水浴加热辅助,加热温度为30~80摄氏度,加热时间为40~80分钟;将腐蚀之后的靶材在去离子水中彻底清洗干净,即为一块大规模微透镜阵列的模板成品,本发明结合传统化学刻蚀工艺,最终实现大规模微透镜阵列低成本、高效率的批量生产。

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