一种镍铬合金溅射靶材及其热等静压制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110349682.7
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/35;B22F3/15;C22C19/05;C22C27/06
申请日期：
2021-03-31
申请人：
宁波江丰电子材料股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种镍铬合金溅射靶材及其热等静压制备方法
申请号	CN202110349682.7	申请日期	2021-03-31
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-07-09	公开/公告号	CN113088901A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;B;2;2;F;3;/;1;5;;;C;2;2;C;1;9;/;0;5;;;C;2;2;C;2;7;/;0;6查看分类表>
申请人	宁波江丰电子材料股份有限公司	申请人地址	浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司	当前权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司
发明人	姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;黄东长
代理机构	北京远智汇知识产权代理有限公司	代理人	王岩

摘要

本发明涉及一种镍铬合金溅射靶材及其热等静压制备方法，所述热等静压制备方法包括：先准备Cr含量为30‑80wt％的镍铬合金粉，装入模具并封口；然后依次进行脱气处理、热等静压处理以及机加工，得到镍铬合金溅射靶材。本发明所述热等静压制备方法采用热等静压工艺，不仅可以制备得到致密度≥99％、晶粒尺寸细小、内部结构均匀的高铬含量的镍铬合金溅射靶材，还可以保证镍铬合金溅射靶材的磁通量≥99％，符合半导体等高精端产业的溅射要求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供