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一种光刻胶组合物

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110731453.1
  • IPC分类号:G03F7/039;G03F7/004
  • 申请日期:
    2021-06-29
  • 申请人:
    北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
著录项信息
专利名称一种光刻胶组合物
申请号CN202110731453.1申请日期2021-06-29
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-21公开/公告号CN113419404A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/039IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4查看分类表>
申请人北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司申请人地址
北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区) 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京科华微电子材料有限公司,北京科华丰园微电子科技有限公司,上海彤程电子材料有限公司,彤程新材料集团股份有限公司当前权利人北京科华微电子材料有限公司,北京科华丰园微电子科技有限公司,上海彤程电子材料有限公司,彤程新材料集团股份有限公司
发明人马洁;李冰;孙嘉;郑金红;陈昕;王文芳;董栋;张宁
代理机构北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)代理人王丽莎
摘要
本申请提供一种光刻胶组合物,属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括:100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2~30重量份光致产酸剂和0.01~5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物,碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合,能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时,三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌,降低顶部损失,降低粗糙度。

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