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一种可自引发的紫外光固化低聚物及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711162097.6
  • IPC分类号:C08G18/67;C09D175/14
  • 申请日期:
    2017-11-21
  • 申请人:
    苏州市明大高分子科技材料有限公司
著录项信息
专利名称一种可自引发的紫外光固化低聚物及其制备方法
申请号CN201711162097.6申请日期2017-11-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-04-17公开/公告号CN107915829A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C08G18/67IPC分类号C;0;8;G;1;8;/;6;7;;;C;0;9;D;1;7;5;/;1;4查看分类表>
申请人苏州市明大高分子科技材料有限公司申请人地址
浙江省湖州市南浔区菱湖镇工业功能区凉山路159号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瑞通高分子科技(浙江)有限公司当前权利人瑞通高分子科技(浙江)有限公司
发明人余宗萍;淳生前
代理机构南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)代理人冯慧
摘要
本发明提供了一种可紫外光固化的自引发低聚物及其制备方法,该发明提供了可以紫外光固化的自引发低聚物的合成方法,所述低聚物是由2‑羟基‑2‑甲基‑1‑苯基‑1‑丙酮和异氰酸酯化合物及丙烯酸(甲基丙烯酸)羟基酯、催化剂、助剂等合成的一种可以在紫外光照射下,产生自由基并且自己交联固化的低聚物。低聚物紫外光固化不需要加入另外的紫外光引发剂,具有气味低,且不产生小分子碎片,固化成膜具有硬度高,固化度可达90%。

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