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具有半导体通孔的半导体器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210353815.9
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/423;H01L23/367;H01L21/28
  • 申请日期:
    2012-09-21
  • 申请人:
    英飞凌科技股份有限公司
著录项信息
专利名称具有半导体通孔的半导体器件
申请号CN201210353815.9申请日期2012-09-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-04-03公开/公告号CN103022132A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;3;/;3;6;7;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8查看分类表>
申请人英飞凌科技股份有限公司申请人地址
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技股份有限公司当前权利人英飞凌科技股份有限公司
发明人A.P.迈泽尔;M.聪德尔
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人王岳;李浩
摘要
本发明涉及具有半导体通孔的半导体器件。一种半导体器件包括:半导体基底,具有第一表面和第二表面;至少一个电极,布置在从所述第一表面延伸至所述半导体基底中的至少一个沟槽中;以及半导体通孔,沿所述半导体基底的垂直方向在所述半导体基底内延伸至所述第二表面。所述半导体通孔通过通孔绝缘层与所述半导体基底电气绝缘。所述至少一个电极沿所述半导体基底的第一横向方向延伸通过所述通孔绝缘层并电气连接至所述半导体通孔。

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