备有磁轭层的磁存储装置及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN03152413.3
IPC分类号：H01L27/105;G11C11/14;G11C11/15;H01L43/08
申请日期：
2003-07-30
申请人：
株式会社东芝

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法律信息

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著录项信息

专利名称	备有磁轭层的磁存储装置及其制造方法
申请号	CN03152413.3	申请日期	2003-07-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-02-18	公开/公告号	CN1476019
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L27/105 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L27/00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件（其零部件入H01L 23/00，H01L 29/00至H01L 51/00；由多个单个固态器件组成的组装件入H01L 25/00）〔2，8〕 H01L27/02 包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的〔2〕 H01L27/04 其衬底为半导体的〔2〕 H01L27/10 在重复结构中包括有多个独立组件的〔2〕 H01L27/105 包含场效应组件的〔5〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;7;/;1;0;5;;;G;1;1;C;1;1;/;1;4;;;G;1;1;C;1;1;/;1;5;;;H;0;1;L;4;3;/;0;8查看分类表>
申请人	株式会社东芝	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社东芝	当前权利人	株式会社东芝
发明人	與田博明;浅尾吉昭;上田知正;天野実;岸逹也;細谷啓司;宫本順一
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	李德山

摘要

一种磁存储装置，包括：在第一方向上延伸的第一布线；在与上述第一方向不同的第二方向上延伸的第二布线；配置在上述第一和第二布线间的上述第一和第二布线的交点上的磁电阻效应元件；至少覆盖上述第一布线的下面和两个侧面中的某一个面的第一磁轭主体部；至少覆盖上述第二布线的上面和两个侧面中的某一个面的第二磁轭主体部；在上述磁电阻效应元件的上述第一方向上的两个侧面上与上述磁电阻效应元件分开配置的第一和第二磁轭尖部；在上述磁电阻效应元件的上述第二方向上的两个侧面上与上述磁电阻效应元件分开配置的第三和第四磁轭尖部。

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