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一种实现均匀压印的纳米压印设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201720471306.4
  • IPC分类号:G03F7/00
  • 申请日期:
    2017-05-01
  • 申请人:
    青岛天仁微纳科技有限责任公司
著录项信息
专利名称一种实现均匀压印的纳米压印设备
申请号CN201720471306.4申请日期2017-05-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/00IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人青岛天仁微纳科技有限责任公司申请人地址
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人青岛天仁微纳科技有限责任公司当前权利人青岛天仁微纳科技有限责任公司
发明人冀然
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开了一种实现均匀压印的纳米压印设备,包括中央控制单元、放置模板或基板的托板、中间安装有透明模板的承压板,所述透明模板的上方设有紫外线照射灯,所述承压板置于所述托板的上方,所述托板的侧面安装有不少于三个支撑板,支撑板的端面和托板的端面平行,所述承压板的侧面安装有和支撑板相对应设置的直线位移传感器,所述托板的底部安装有不少于三个用于带动所述托板做上下往复移动的上下移动装置,所述上下移动装置和所述支撑板对应设置;相对于现有技术,本实用新型保证了承压板和托板之间的距离始终一致,实现均匀压印。

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