光侦测装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201911014639.4
IPC分类号：G01J3/02;G01J3/28
申请日期：
2019-10-24
申请人：
光焱科技股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光侦测装置
申请号	CN201911014639.4	申请日期	2019-10-24
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-04-27	公开/公告号	CN112710389A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01J3/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01J 红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法〔2〕 G01J3/00 光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色〔4〕 G01J3/02 零部件	IPC分类号	G;0;1;J;3;/;0;2;;;G;0;1;J;3;/;2;8查看分类表>
申请人	光焱科技股份有限公司	申请人地址	中国台湾高雄市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	光焱科技股份有限公司	当前权利人	光焱科技股份有限公司
发明人	廖华贤;林启清;苏信忠
代理机构	北京泰吉知识产权代理有限公司	代理人	张雅军;谢琼慧

摘要

一种光侦测装置，适用于侦测光源发出的一个具有强度变化的待测光。该光侦测装置包含阵列式光谱仪、光电探测器，及中控单元。该阵列式光谱仪适用于侦测该待测光的一个强光部分，并输出一个第一侦测讯号。该光电探测器位于该阵列式光谱仪旁，适用于侦测该待测光的一个弱光部分，并输出一个第二侦测讯号。该中控单元包括运算模块，该运算模块将该第一侦测讯号与该第二侦测讯号进行运算整合，以取得一个相关于该待测光的光强度变化。本发明可用于侦测该光源发出的连续、多重变化的待测光，而且侦测快速且灵敏度高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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