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一种薄膜晶体管及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011564030.7
  • IPC分类号:H01L29/786;H01L29/24;H01L21/34;B82Y30/00
  • 申请日期:
    2020-12-25
  • 申请人:
    广东省科学院半导体研究所
著录项信息
专利名称一种薄膜晶体管及其制备方法
申请号CN202011564030.7申请日期2020-12-25
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-06公开/公告号CN112614896A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;H;0;1;L;2;9;/;2;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;4;;;B;8;2;Y;3;0;/;0;0查看分类表>
申请人广东省科学院半导体研究所申请人地址
广东省广州市天河区长兴路363号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人广东省科学院半导体研究所当前权利人广东省科学院半导体研究所
发明人庞超;龚政;胡诗犇;郭婵;潘章旭;刘久澄;龚岩芬;王建太;邹胜晗;陈志涛
代理机构北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)代理人刘曾
摘要
本发明的实施例提供了一种薄膜晶体管及其制备方法,涉及半导体技术领域,薄膜晶体管包括衬底、栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极,本发明提供的薄膜晶体管,通过采用具有p型半导体特性的多元硫化物二维纳米片薄膜制备有源层,而二维纳米片是一种在厚度方向上仅仅具有单个或者多个原子层,并且依靠层间的范德瓦尔斯力堆积而成的层状材料,其层间时较弱的范德华作用力,不用考虑晶格匹配的限制,故本发明减缓了生长材料间的晶格失配现象,提升了晶体质量。同时,本申请中采用具有p型半导体特性的多元硫化物,其无需再进行掺杂,工艺流程简单,不需要进行材料掺杂工艺,成本低廉,并且保留了材料自身固有性质,有助于提升器件性能。

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