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一种氧化铍陶瓷的清洗工艺

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010597324.X
  • IPC分类号:B08B3/04;B08B3/08;B08B3/12;F26B21/00;F26B23/00
  • 申请日期:
    2010-12-21
  • 申请人:
    安徽华东光电技术研究所
著录项信息
专利名称一种氧化铍陶瓷的清洗工艺
申请号CN201010597324.X申请日期2010-12-21
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2011-08-31公开/公告号CN102166575A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B3/04IPC分类号B;0;8;B;3;/;0;4;;;B;0;8;B;3;/;0;8;;;B;0;8;B;3;/;1;2;;;F;2;6;B;2;1;/;0;0;;;F;2;6;B;2;3;/;0;0查看分类表>
申请人安徽华东光电技术研究所申请人地址
安徽省芜湖市弋江区高新技术开发区华夏科技园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安徽华东光电技术研究所当前权利人安徽华东光电技术研究所
发明人吴华夏;江祝苗;陈明龙;王莹;张丽
代理机构安徽合肥华信知识产权代理有限公司代理人余成俊
摘要
本发明公开了一种氧化铍陶瓷的清洗工艺,工艺流程如下:配置去油溶液→超声波去油→过滤溶液并处理废料→流水清洗→超生波清洗→干燥处理→取出氧化铍陶瓷。本发明工艺简单,易于实现,成本较低,可以有效地洗去氧化铍附有的有毒粉尘,降低了氧化铍对人体造成的伤害。

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