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监测和控制等离子体制造工艺的技术

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200780008205.2
  • IPC分类号:H01J37/32;H01J49/40
  • 申请日期:
    2007-03-09
  • 申请人:
    瓦里安半导体设备公司
著录项信息
专利名称监测和控制等离子体制造工艺的技术
申请号CN200780008205.2申请日期2007-03-09
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-04-01公开/公告号CN101401187
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;J;4;9;/;4;0查看分类表>
申请人瓦里安半导体设备公司申请人地址
美国麻萨诸塞州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瓦里安半导体设备公司当前权利人瓦里安半导体设备公司
发明人具本雄;卢多维克·葛特;瓦斯里斯·朋内提斯·凡劳米斯;维克拉姆·辛区;方子韦;伯纳德·琳赛
代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司代理人寿宁
摘要
一种用于监测等离子体中的离子种类的飞行时间离子感测器包括外壳。漂移管定位于所述外壳中。提取器电极在所述外壳中定位于所述漂移管的一第一末端处,以便自等离子体吸引离子。多个电极定位于所述漂移管的一第一末端处并接近所述提取器电极。偏压所述多个电极,以便使被吸引的离子的至少一部分进入所述漂移管,且向所述漂移管的一第二末端漂移。一离子侦测器接近所述漂移管的所述第二末端而定位。所述离子侦测器侦测与所述被吸引离子的所述至少一部分关联的到达时间。

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