含第4族金属的膜的沉积方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010521611.2
IPC分类号：C23C16/40;C23C16/18;C23C16/44;C23C16/455
申请日期：
2010-10-25
申请人：
气体产品与化学公司

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著录项信息

专利名称	含第4族金属的膜的沉积方法
申请号	CN201010521611.2	申请日期	2010-10-25
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2011-05-04	公开/公告号	CN102041482A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/40 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/30 沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物〔4〕 C23C16/40 氧化物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;4;0;;;C;2;3;C;1;6;/;1;8;;;C;2;3;C;1;6;/;4;4;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;5查看分类表>
申请人	气体产品与化学公司	申请人地址	美国亚利桑那州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	弗萨姆材料美国有限责任公司	当前权利人	弗萨姆材料美国有限责任公司
发明人	S·V·埃瓦诺夫;X·雷;H·程;D·P·斯佩斯;金武性
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	陈文平;尚继栋

摘要

本发明涉及含第4族金属的膜的沉积方法，尤其是一种利用通式M(OR1)(OR2)(R3C(O)C(R4)C(O)XR5y)2的前体通过原子层沉积形成含金属膜的方法，其中，M是第4族金属；R1和R2可以相同或不同，选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基；R3可选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选为C1-3烷基；R4是选自氢、C1-10烷基和C6-12芳基，优选为氢；R5是选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选为甲基或乙基；X＝O或N，其中当X＝O时，y＝1且R1，2和5是相同的，当X＝N时，y＝2且每个R5可以相同或不同。

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