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填料式撞击流H2S吸收装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201510824129.9
  • IPC分类号:B01D53/18
  • 申请日期:
    2015-11-24
  • 申请人:
    天津天元伟业化工技术有限公司
著录项信息
专利名称填料式撞击流H2S吸收装置
申请号CN201510824129.9申请日期2015-11-24
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2016-02-24公开/公告号CN105344209A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D53/18IPC分类号B;0;1;D;5;3;/;1;8查看分类表>
申请人天津天元伟业化工技术有限公司申请人地址
天津市南开区华苑产业区海泰信息广场D座613-1室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天津天元伟业化工技术有限公司当前权利人天津天元伟业化工技术有限公司
发明人高晓冲
代理机构天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙)代理人张一纯
摘要
本发明涉及一种填料式撞击流H2S吸收装置,其装置包括一筒体,该筒体上端制有排气口,该筒体下端制有排液口,筒体内的上部设置有布液器,在筒体内的布液器下方设置有布料器,在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管,在喷气管内设置有压力雾化喷嘴,该装置结构简单,设计科学合理、能够有效粉碎中草药,并且在粉碎过程中进行烘干,而且可以连续进出料,省时省力。

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